机译:利用热线化学气相沉积技术中沉积压力的增加合成纳米晶硅薄膜
机译:利用热线化学气相沉积技术提高沉积压力合成纳米晶硅薄膜
机译:沉积压力对通过热线化学气相沉积法生长的B掺杂氢化纳米晶硅(nc-Si:H)薄膜的微结构和光电性能的影响
机译:通过热线化学气相沉积技术提高本征纳米晶Si薄膜的稳定性
机译:热线化学气相沉积合成的氮化硅薄膜内氮含量的测定
机译:大气压化学气相沉积法将非晶碳化硅薄膜沉积在熔融石英上。
机译:使用化学浴沉积法改进沉积时间温度和pH值来合成纳米晶SnOx(x = 1-2)薄膜
机译:通过热线化学气相沉积(HWCVD)沉积的氢化纳米晶硅薄膜的研究
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响